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新型氟化物掺杂ZnO透明导电薄膜与Al_2O_3透明介质薄膜的研究

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新型氟化物掺杂ZnO透明导电薄膜与Al_2O_3透明介质薄膜的研究
论文目录
 
摘要第1-8页
Abstract第8-15页
第1章 绪论第15-35页
  1.1 透明导电薄膜研究的概述第15-26页
    1.1.1 研究背景第15-16页
    1.1.2 影响透明导电薄膜性能因素第16-18页
    1.1.3 透明导电薄膜分类第18页
    1.1.4 几种常见TCO薄膜的性质及其存在的问题第18-21页
    1.1.5 透明导电薄膜的主要应用领域第21-24页
    1.1.6 有机发光二极管OLED和量子点发光二极管QLED器件第24-26页
  1.2 掺杂ZnO透明导电薄膜的概述第26-28页
  1.3 Al_2O_3介质薄膜的概述第28-30页
  1.4 本论文的主要工作第30-35页
第2章 透明导电薄膜与介质膜制的备方法以及表征手段第35-49页
  2.1 透明导电薄膜的制备方法第35-39页
    2.1.1 真空热蒸镀法第35-36页
    2.1.2 电子束蒸发沉积法第36-38页
    2.1.3 磁控溅射法第38-39页
  2.2 透明导电薄膜的几种常规表征手段第39-45页
    2.2.1 四探针测试仪第40页
    2.2.2 表面轮廓仪第40-41页
    2.2.3 分光光度计第41页
    2.2.4 霍尔效应测试仪第41-43页
    2.2.5 开尔文探针第43-44页
    2.2.6 原子力显微镜第44-45页
  2.3 介质膜的制备方法第45-47页
    2.3.1 脉冲激光沉积法第45-46页
    2.3.2 原子层沉积法第46-47页
  2.4 介质膜的几种常规表征手段第47-49页
第3章 Eu和F共掺ZnO基透明电极的研究及其在OLED和QLED中的应用第49-69页
  3.1 前言第49页
  3.2 透明导电薄膜制备及其性能第49-60页
    3.2.1 透明导电薄膜的制备第49-51页
    3.2.2 透明导电薄膜特性分析第51-60页
  3.3 器件制备与性能第60-68页
    3.3.1 器件制备第61-62页
    3.3.2 器件性能第62-68页
  3.4 小结第68-69页
第4 章Ho和F共掺ZnO透明导电薄膜的热稳定性及阳极材料性能研究第69-81页
  4.1 前言第69-70页
  4.2 透明导电膜制备与测试第70-71页
    4.2.1 透明导电膜制备第70-71页
    4.2.2 透明导电膜测试第71页
  4.3 透明导电薄膜退火处理的特性分析第71-74页
  4.4 电学性能与离子半径关系第74-76页
  4.5 透明导电薄膜退火处理与电学特性分析第76-78页
  4.6 器件制备与性能第78-80页
    4.6.1 器件制备第78页
    4.6.2 器件性能第78-80页
  4.7 小结第80-81页
第5章 纳米晶铝薄膜的氧化动力学第81-93页
  5.1 前言第81-83页
  5.2 铝和氧化铝薄膜的制备第83-84页
  5.3 氧化过程分析第84-92页
    5.3.1 纳米晶铝的氧化动力学第84-88页
    5.3.2 对数氧化速率规则模型第88-89页
    5.3.3 铝氧化的激活能第89-90页
    5.3.4 高温下负激活能的解释第90-92页
  5.4 小结第92-93页
第6 章Al_2O_3 透明介质薄膜的制备及其表征第93-103页
  6.1 引言第93-94页
  6.2 实验与表征第94-95页
    6.2.1 Al薄膜的制备第94页
    6.2.2 Al_2O_3薄膜的制备第94页
    6.2.3 Al_2O_3薄膜的表征第94-95页
  6.3 Al_2O_3 薄膜的结构与形貌分析第95-99页
  6.4 Al_2O_3 薄膜的光学特性第99-101页
  6.5 小结第101-103页
第7章 结论与展望第103-107页
  7.1 总结第103-104页
  7.2 展望第104-107页
参考文献第107-127页
攻读博士期间发表论文第127-129页
致谢第129页

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